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振华真空攻克大面积均匀光学镀膜难题
2025-11-27 11:28:58 203次

广东佛山真空与半导体行业展会上,振华真空发布自研磁控光学沉积技术,引发行业轰动。该技术攻克了传统镀膜工艺中大面积玻璃均匀性不足的行业痛点,通过优化磁控溅射源的磁场分布与沉积速率控制算法,实现≥2m×3m大尺寸玻璃镀膜均匀性提升40%,膜层附着力经百次摩擦测试无脱落,较传统工艺增强3倍。

据振华真空技术总监介绍,该生产线创新性采用双腔室连续镀膜设计,避免了单次镀膜的边缘效应,同时通过实时膜厚监测系统将误差控制在±0.1%以内。这一设计不仅提升了产品一致性,还将生产效率较传统单腔室设备提升20%。

目前,该生产线已获京东方、TCL等头部显示面板企业订单,主要用于8K超高清商显屏及车载曲面屏生产,预计年产能达50万平方米,可降低下游企业镀膜成本约25%。此次突破打破了国外对大尺寸高端镀膜设备的垄断,推动国内显示产业核心工艺自主化进程。
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